一． 南大光电光刻胶获得突破7nm

国内对于光科技的研究已经持续很长时间了。但是，在高端光刻机上还是没能突破，就算想进口，以美国为首的西方国家，就是卡中国人的脖子。因为，中国每年光购买芯片的费用高达2000亿美元。

这个市场是庞大的，所以限制中国购买光刻机也就是稳住了2000亿的市场份额。

其实，在芯片制造的过程中还有一个非常重要的技术，那就是光刻机胶技术。现在传来一个好消息：南大光电国产ARF光刻胶取得重大突破，可以用于7nm工艺。即将进入量产及销售阶段。

这就意味着，在国内光刻机技术中取得了重大突破。并且能在光刻胶市场中分一杯羹。

在之前的光刻胶市场，国内基本上是排不上号的。此次，南大光电完成突破，不仅是我们能够占据更大的市场，还能给予国内光科技研究的信心。

这使日本、美国始料未及。

这也正面了，即使不依赖国外的技术，国内也能办的很好。

据公开资料显示，在全球光刻胶市场排名前五名的公司，有四家来自于日本，一家来自于美国。可见在光刻胶市场上，日本是占有绝对主导地位的。

二． 光刻机的制造是以顶级科技的结晶

上面说日本光刻胶技术全球领先。但是，日本也造不出光刻机。

这是因为高端光刻机是顶尖技术的复合。不是有了一种技术就行了的。

我国光科技技术现在正在研制当中。光刻机的制造是各种顶尖技术的结晶。光刻胶技术我国南大光电虽然突破了，但并不是说我们在高端光刻机上就能马上突破的。

高端光刻机技术是我国投资巨大的项目。如果我们不能研制出高端光刻机，我国芯片制造就会处处受限制。

现在的好消息是，我国的中微电子已经研制出5nm刻蚀机，领先世界。

西方死活不卖光刻机，中国能够自研吗？没有一个国家能够单独研制光科技。自己研究光刻机，自己制造芯片提供给华为等企业是最可靠的办法。

我国光刻机技术也有着显著的进步。上海微电子就掌握专利2300多项，现在已经能够生产28nm光刻机，不久以后就能生产高端光刻机。

写在后面：我们从南大光电突破光刻胶技术，中微电子突破5nm技术上来看，我国也能够自主生产光刻机。从28nm 开始只是个起点。中国科学院研发的2nm炭基材料上来看，我们要把制造芯片的技术今后牢牢地掌握在自己的手中。

28nm到14nm，14nm到7nm，5nm我们离既定的目标虽然还有差距，现在差距在不断缩小。中国人自己制造出高端光刻机的时代不远了。